Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition

英文缩写：PACVD

英文全称：Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition

中文释义：等离子体辅助化学气相沉积

中文拼音：děng lí zǐ tǐ fǔ zhù huà xué qì xiāng chén jī

所属分类：Academic & Science

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